產品中心
當前位置:首頁 > 產品中心 > CVD氣相沉積 > 高真空CVD系統
產品分類CLASSIFICATION
CVD氣相沉積
相關文章ARTICLES
CVD(ChemicalVaporDeposition,化學氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態化學前驅體反應成固態沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應用于半導體制造、光伏設備、涂層和材料科學等領域。
GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統,它是由二路質子混氣系統和高真空機組組度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導
TEL:021-54338590
關注公眾號