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                          • CVD氣相沉積

                            CVD(ChemicalVaporDeposition,化學氣相沉積)是一種用于薄膜沉積的技術。它通過將氣態化學前驅體反應成固態沉積物,在基材表面形成薄膜。CVD廣泛應用于半導體制造、光伏設備、涂層和材料科學等領域。

                            更新日期:2024-12-04
                            型號:
                            廠商性質:代理商
                          • GSL-1700X-HVC1700°C二通道混氣高真空CVD系統

                            GSL-1700X-HVC是一款CE認證的二通道高真空CVD系統,它是由二路質子混氣系統和高真空機組組度可達1600℃,極限真空度可達 to 10^-5 torr?;鞖庀到y可以對兩種氣體進行精確的混氣,然后導

                            更新日期:2024-12-04
                            型號:GSL-1700X-HVC
                            廠商性質:代理商
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