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OTF-1200X-S2-50SL是一款小型的雙爐體滑動管式爐，爐管為Φ50×1400mm的石英管，并配有不銹鋼密封法蘭，儀器Z高溫度可以達到1200℃。兩個爐體可在滑軌上滑動，實現對原材料的蒸發/升華，及薄膜沉積。通過爐體的滑動可實現對樣品快速加熱，Z大升溫速率為100℃/min.同時可選擇電動滑軌、質量流量計（MFC）控制的供氣系統和等離子射頻電源來搭建TCVD系統。
OTF-1200X-4-VTQ是立式可開啟真空管式淬火爐，石英管直徑100mm，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，溫度從Z高1200度到冰水或油，可用于研究材料相轉變和微結構性能。
VTC-16-SM是一款桌面式等離子磁控濺射鍍膜儀，包含一個2英寸水冷靶頭和可旋轉樣品臺，外形小巧，性價比高，是制作各種金屬薄膜理想的鍍膜設備，可選配各種金屬靶材和真空泵。
GSL-1800X-PGEP是一款多功能的合成系統，針對于合成各種納米結構氧化物。此款儀器有三個主要模塊組成：超聲霧化裝置、1800℃管式爐和靜電沉降裝置組成。材料制作大概分為三個步驟：前驅體霧化、加熱和納米顆粒收集。此款系統是一款非常先進的合成系統，可控制器顆粒尺寸，形態，納米/微粒結構。
GSL-1700X-VTQ是一款通過UL認證的立式真空管式淬火爐，標配有直徑60mm的莫來石管和一個用于樣品淬火的液體密封容器。該設備實驗時可以使樣品從高溫環境下（Z高1700度）快速落入冰水或油中，非常適合用于研究材料相變和微結構性能。
OTF-1200X-4-SF是一款爐管尺寸為100mm，帶有滑軌法蘭的管式爐，Z高工作溫度為1200℃，此款管式爐專為客戶自己搭建CVD系統而設計。
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